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  • APCVD技術(shù)在晶硅太陽電池中的應(yīng)用研究

    2018-04-08 16:17:05 大云網(wǎng)  點(diǎn)擊量: 評(píng)論 (0)
    常壓化學(xué)氣相沉積(AtmosphericChemicalVaporDeposition,APCVD)技術(shù)屬于SCHMID公司的專利技術(shù),在北美光伏企業(yè)已有大規(guī)模應(yīng)用。以Sunpower...

    常壓化學(xué)氣相沉積(AtmosphericChemicalVaporDeposition,APCVD)技術(shù)屬于SCHMID公司的專利技術(shù),在北美光伏企業(yè)已有大規(guī)模應(yīng)用。以Sunpower通過此技術(shù)實(shí)現(xiàn)了n型IBC工業(yè)化生產(chǎn)超過22%的電池轉(zhuǎn)換效率為典型,被譽(yù)為高效n型電池開發(fā)極具潛力的關(guān)鍵性技術(shù)。之前,APCVD技術(shù)在光伏界的應(yīng)用處于國(guó)外技術(shù)封鎖階段,目前剛過技術(shù)保密期,因此對(duì)該技術(shù)的應(yīng)用研究在國(guó)內(nèi)已逐漸成為熱點(diǎn),同時(shí)也具有先導(dǎo)性意義。

    APCVD的原理

    APCVD技術(shù)是指在大氣壓下,把一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室,然后通過氣相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積一層固態(tài)薄膜的方法[1,2]。APCVD技術(shù)在太陽電池的發(fā)射極制備上的應(yīng)用原理是利用氣體源分別在硅片表面沉積一層磷硅玻璃層(PSG)或硼硅玻璃層(BSG),再采用高溫推進(jìn)的方式將P+或B+推進(jìn)至硅片,在硅片表面一定深度內(nèi)產(chǎn)出間隙原子和空位,改變晶體結(jié)構(gòu),從而形成電池發(fā)射極。

    使用PH3可在p型硅片表面沉積一層PSG,經(jīng)過高溫推進(jìn)過程后形成太陽電池的核心結(jié)構(gòu)p-n結(jié);使用B2H6可在n型硅片表面沉積一層BSG,經(jīng)過高溫推進(jìn)過程后形成太陽電池的核心結(jié)構(gòu)p-n結(jié)。在硅片表面沉積PSG或BSG的相關(guān)反應(yīng)原理如下:

    PSG層的形成:SiH4+O2→SiO2+2H2;4PH3+5O2→2P2O5+6H2

    BSG層的形成:SiH4+O2→SiO2+2H2;2B2H6+3O2→2B2O3+6H2

    APCVD的實(shí)現(xiàn)方式

    實(shí)驗(yàn)使用的APCVD設(shè)備主要有加熱腔、沉積腔、冷卻腔3部分。APCVD工藝過程分為加熱、第一步沉積(BSG或PSG)、恒溫區(qū)域加熱、第二步沉積保護(hù)層(SiO2或TiO2)、降溫。使用不同的工藝氣體,可形成不同的沉積層。沉積過程在如圖1所示的系統(tǒng)下完成。

    工藝氣體經(jīng)過管路到達(dá)沉積腔的噴頭處,從噴頭出來的氣體到達(dá)硅片表面,并在硅片表面相互反應(yīng)形成沉積層。噴頭處有5個(gè)細(xì)小的孔,可以滿足3種不同的氣體(O2、N2、SiH4/PH3/B2H6)同時(shí)經(jīng)過噴頭到達(dá)硅片表面。沉積速率可通過調(diào)整氣體比例及硅片溫度來控制;當(dāng)需要形成較厚沉積層時(shí),可以通過增加噴頭數(shù)量來實(shí)現(xiàn)。

    APCVD制備發(fā)射極在晶硅太陽電池中的應(yīng)用

    APCVD進(jìn)行常規(guī)p型單面晶硅太陽電池制備

    制作常規(guī)p型單面晶硅太陽電池時(shí),在工藝過程中導(dǎo)入APCVD制備發(fā)射極技術(shù),僅需將高溫磷擴(kuò)散更換為APCVD沉積PSG及高溫推進(jìn),其他工序與常規(guī)電池相同。工藝如下:制絨→APCVD-PSG→高溫推進(jìn)→刻蝕→正面PECVD鍍SiNx→絲網(wǎng)印刷→燒結(jié)→I-V測(cè)試

    在硅片表面制備PSG后進(jìn)行高溫推進(jìn),與常規(guī)高溫磷擴(kuò)散相比,有增加硅片表面磷摻雜的均勻性的優(yōu)勢(shì)。

    APCVD進(jìn)行p型雙面晶硅太陽電池制備

    雙面電池典型的結(jié)構(gòu)是兩個(gè)高摻雜區(qū)域:一個(gè)硼摻雜的發(fā)射極和一個(gè)磷摻雜的發(fā)射極。傳統(tǒng)工藝進(jìn)行雙面電池的制備需要進(jìn)行兩次擴(kuò)散阻擋層的制備及兩次濕法化學(xué)去除阻擋層,工藝過程十分繁瑣,而這正是阻礙雙面電池工業(yè)化生產(chǎn)的絆腳石。使用APCVD制備兩種摻雜能有效簡(jiǎn)化工藝過程。兩種工藝制備p型雙面電池的工藝流程如表1所示。

    從表1可看出,APCVD技術(shù)應(yīng)用到雙面電池的制備中能有效簡(jiǎn)化熱擴(kuò)散兩次制結(jié)的中間步驟,減少雙面電池的制作工藝。采用APCVD技術(shù)制備雙面電池時(shí),可實(shí)現(xiàn)前后表面B/P摻雜的共推進(jìn),能減少兩次熱擴(kuò)散對(duì)電池質(zhì)量的損傷。相較于傳統(tǒng)的熱擴(kuò)散工藝APCVD技術(shù),制備出的p型雙面電池方阻更均勻,能縮小電池片效率的分布區(qū)間,提升電池片的整體質(zhì)量,降低制作成本。

    溫度及氣體比例對(duì)沉積膜厚的影響研究

    采用APCVD方式沉積PSG,并使用PSG作為恒定源進(jìn)行推結(jié)時(shí),PSG的厚度及P原子在膜中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是決定推結(jié)情況的重要因素。P原子質(zhì)量百分?jǐn)?shù)通過改變PH3的體積百分比來進(jìn)行調(diào)節(jié),整體的厚度可通過溫度及O2與氫化物的比例進(jìn)行調(diào)節(jié)。實(shí)驗(yàn)選取410℃、430℃及450℃3個(gè)溫度,在每個(gè)溫度條件下進(jìn)行O2與氫化物的比例調(diào)節(jié),實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)匯總結(jié)果如圖2所示。

    從圖2可看出,在每個(gè)溫度條件下,隨著O2與氫化物的比例的增大,沉積的膜厚先增大后減小。這說明每個(gè)溫度條件下,O2均有一個(gè)上限值,超過這個(gè)上限值后O2的增加不但不能增加膜厚,反而對(duì)反應(yīng)有抑制作用。而且,每個(gè)溫度條件下的比例上限不同,隨著溫度的升高,上限值增大。此外,對(duì)于PSG的沉積,升高溫度可加快沉積速率。最終的PSG制備工藝參考此特性進(jìn)行設(shè)計(jì)。

    制備雙面電池的高溫工藝

    APCVD技術(shù)制備雙面電池的關(guān)鍵之處在于使用POCl3進(jìn)行硼磷的共擴(kuò)散。硼元素的擴(kuò)散溫度比磷元素的擴(kuò)散溫度高,其主要的擴(kuò)散溫度區(qū)間為900~1000℃[3,4]。在擴(kuò)散爐管內(nèi)先高溫達(dá)到硼擴(kuò)散的溫度,再降溫至磷擴(kuò)散溫度。采用如圖3的溫度曲線進(jìn)行共擴(kuò)散。

    如圖3所示,溫度升高到900~1000℃時(shí)保持恒溫約30min,為擴(kuò)散的第一階段。第一階段主要進(jìn)行硼摻雜的推進(jìn),該高溫過程是在含有POCl3的氣體氛圍內(nèi)進(jìn)行,因此在硼摻雜推進(jìn)的同時(shí)進(jìn)行磷摻雜的深推進(jìn)。該階段完成后是擴(kuò)散的第二階段,降低溫度達(dá)到常規(guī)擴(kuò)散工藝進(jìn)行磷摻雜的溫度并保持一段時(shí)間的恒溫,進(jìn)行磷摻雜發(fā)射極的表面摻雜。第一階段的高溫進(jìn)行硼摻雜推進(jìn)時(shí),溫度比磷擴(kuò)散的溫度約高100℃,對(duì)POCl3的擴(kuò)散影響較大。調(diào)節(jié)第一階段的溫度、POCl3流量情況進(jìn)行對(duì)比實(shí)驗(yàn),分析影響規(guī)律。完成擴(kuò)散后使用四探針進(jìn)行方塊電阻測(cè)試,測(cè)試結(jié)果如圖4所示。

    通過實(shí)驗(yàn)對(duì)比可知,隨著溫度的升高,方塊電阻逐漸降低;隨著氣體流量的增大,方塊電阻也逐漸降低。結(jié)合硼磷摻雜的特性,較適合的第一階段推進(jìn)溫度為950℃,氣體流量為0.75slpm。

    APCVD進(jìn)行雙面電池試制

    選取常規(guī)156mm×156mm的p型單晶硅片,使用APCVD方式進(jìn)行雙面電池的試制。APCVD設(shè)備制備BSG及SiO2后進(jìn)行POCl3擴(kuò)散,調(diào)整工藝條件使磷摻雜面的方塊電阻保持在80Ω/□,背面硼摻雜方塊電阻保持在約110Ω/□。正反面進(jìn)行SiNx薄膜制備后,磷發(fā)射極的正面使用常規(guī)p型電池正面的銀漿進(jìn)行電極印刷,背面硼發(fā)射極處使用特殊的銀鋁漿進(jìn)行電極印刷。最終制備的雙面電池片電性能如表2所示。

    使用APCVD技術(shù)制備的p型雙面電池正面的轉(zhuǎn)換效率達(dá)到19.68%,背面的轉(zhuǎn)換效率為11.66%。

    結(jié)論

    APCVD技術(shù)能有效地運(yùn)用到p型雙面電池的制備中。使用APCVD技術(shù)制備雙面電池時(shí),可實(shí)現(xiàn)前后表面B/P摻雜的共推進(jìn),減少制作工藝步驟的同時(shí)能減少兩次熱擴(kuò)散對(duì)電池質(zhì)量的損傷。APCVD進(jìn)行p-n結(jié)制備技術(shù)在雙面電池制備工藝中的應(yīng)用能促進(jìn)雙面電池產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的步伐。

    實(shí)驗(yàn)使用APCVD制備BSG后,采用高溫共擴(kuò)散的方式制備硼發(fā)射極及磷發(fā)射極,磷摻雜面的方塊電阻保持在80Ω/□,硼摻雜方塊電阻約保持在110Ω/□,最終制成的p型雙面電池正面效率達(dá)到19.68%,背面效率為11.66%。實(shí)驗(yàn)電池片背面效率較低,其提升空間較大,后續(xù)可進(jìn)行背面優(yōu)化實(shí)驗(yàn),提升背面的轉(zhuǎn)換效率。

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    責(zé)任編輯:蔣桂云

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